集成电路布图设计保护条例公布修订版

集成电路布图设计保护条例正式修订,明确专有权登记、10年保护期 规范许可使用与侵权责任,助力技术创新和产业发展,值得关注

新华社8月3日北京电,国务院修订后的《集成电路布图设计保护条例》正式公布,并将于2026年10月15日起施行。 条例明确,集成电路布图设计专有权受法律保护,旨在鼓励技术创新、促进科技发展,并提升我国在布图设计创造、运用、保护、管理和服务等方面的水平。条例对布图设计的定义、权利归属、登记程序、保护期限、许可使用、非自愿许可以及侵权责任等作出系统规定。 根据条例,布图设计专有权经登记产生,保护期为10年;同时,条例也对独创性要求、申请材料、初审与复审、权利转让备案、合理使用和法律责任等内容作出细化安排,以规范相关权利保护与市场秩序。