司法部和国家知识产权局解读集成电路布图设计保护条例修订

司法部和国家知识产权局负责人近日就修订后的《集成电路布图设计保护条例》回答记者提问。该条例已由国务院公布，将于2026年10月15日起施行，旨在适应集成电路产业发展和知识产权保护的新需求。 修订内容主要涉及申请与审查程序、专有权保护、成果运用和配套管理等方面。条例要求登记申请应以真实创作活动为基础，增加独创性声明，并明确对不符合规定的申请可以驳回或撤销；同时，对因不可抗力等正当原因延误期限的，允许申请恢复权利。 在保护方面，条例明确侵权赔偿可按实际损失、侵权获利或许可费倍数确定，情节严重的可适用惩罚性赔偿。有关部门表示，下一步将加强宣传解读、完善配套制度，并推动条例落地实施，以进一步提升集成电路布图设计的保护和运用水平。